盐城光刻版

公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！

光罩（英文：Reticle， Mask），在制作IC的过程中，利用光蚀刻技术，在半导体上形成图型，为将图型复i制於晶圆上，必须透过光罩作用的原理，类似于冲洗照片时，利用底片将影像复i制至相片上。

光掩膜版行业的发展主要受下游平板显示行业、触控行业、半导体行业和电路板行业的发展影响，与下游终端行业的主流消费电子 （手机、平板、可穿戴设备）、笔记本电脑、车载电子、网络通信、家用电器、LED 照明、物联网、医i疗电子等产品的发展趋势密切相关，预计未来几年我国光掩膜版行业将向大尺寸、精细化、全产业链方向发展。2011年我国光掩膜版生产规模为0.87万平方米，2016年生产规模增长至1.69万平方米，复合增长率达到14.20%。

公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！

光绘菲林尺寸涨缩原因分析

1、温度的影响

在相对湿度下，光绘菲林的尺寸随着温度的上升而涨大，温度下降而缩小，其热涨变形系数在18ppm/℃左右，光刻版，也就是说当温度发生1℃的变化时，50cm长的菲林会发生9um的变化(或20寸中的0.36mil).

2、湿度的影响

在相对温度下，菲林的尺寸随着湿度的上升而涨大，相对湿度的降低而缩小，湿涨变形系数在10ppm/%RH右，也就是说当湿度度发生 1℃的变化时，50cm长的菲林会发生5um的变化(或20寸中的0.20mil).

3、胶片在光绘前没有经过预置

由于胶片制造时无法预先控制胶片中的湿度与每个生产车间的湿度一致，因此使用之前应先使其与工作环境达到平衡的状况。建议预置时间为12小时，预置时必须打开胶片的内包装，使其与外界的空气充分接触。