氧化***抛光粉TE-303
TE-303 氧化***抛光粉
LUMINOX
概 要
SEIMI LUMINOX抛光粉是以稀土元素氧化***为主要成份、经日本技术生产而成。
TE-303氧化***抛光粉主要用于精密度要求高的光学研磨、抛光。
TE-303氧化***抛光粉的原料为碳酸稀土，和用氟碳***精矿做的抛光粉比较，具有氧化***浓度高、切削力大、耐久性长等特点。
LUMINOX
概 要
SEIMI LUMINOX抛光粉是以稀土元素氧化***为主要成份、经日本技术生产而成。
TE-303氧化***抛光粉主要用于精密度要求高的光学研磨、抛光。
TE-303氧化***抛光粉的原料为碳酸稀土，和用氟碳***精矿做的抛光粉比较，具有氧化***浓度高、切削力大、耐久性长等特点。
用 途
精密度要求高的光学研磨、抛光，适用于球面镜头、平面玻璃、ITO玻璃等。
精密度要求高的光学研磨、抛光，适用于球面镜头、平面玻璃、ITO玻璃等。
特 征
切削力大、沈淀凝固少、不易堵塞抛光皮、不发生划伤、表面精度高。
切削力大、沈淀凝固少、不易堵塞抛光皮、不发生划伤、表面精度高。
产品技术参数（参考数据，非保证数值）
品 种 平均粒径（μ m） TREO（%） CeO2（%）
TE-303 1.0 93 56
※平均粒径用激光粒度仪测定。（MICROTRAC PARTICLE SIZE ANALYZER HRA）
※TREO（TOTAL RARE EARTH OXIDE）：总氧化稀土含量。
TE-303 1.0 93 56
※平均粒径用激光粒度仪测定。（MICROTRAC PARTICLE SIZE ANALYZER HRA）
※TREO（TOTAL RARE EARTH OXIDE）：总氧化稀土含量。