掩膜板

公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！

光刻胶又称光致抗蚀剂， 将掩膜板上的图形转移到晶圆表面顶层的光刻胶中，并在后续工序中，掩膜板，保护下面的材料（刻蚀或离子注入）。光刻胶由感光树脂、光引发剂、添加剂、溶剂等组成， 其中，感光树脂是光刻胶作用的关键组分。

在半导体制造中，许多芯片工艺步骤采用光刻技术，用于这些步骤的图形“底片”称为掩膜（也称作“掩模”），其作用是：在硅片上选定的区域中对一个不透明的图形模板遮盖，继而下面的腐蚀或扩散将只影响选定的区域以外的区域。

用选定的图像、图形或物体，对处理的图像（全部或局部）进行遮挡，来控制图像处理的区域或处理过程。用于覆盖的特定图像或物体称为掩模或模板。光学图像处理中，掩模可以是胶片、滤光片等。数字图像处理中，掩模为二维矩阵数组，有时也用多值图像。

公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！

菲林在使用中需注意的事项

菲林密度分高密和低密两种。低密是指胶片冲洗后完全未曝i光处的密度，一般在0.05左右。低密值越低越能使胶片清晰通透，晒版网点质量好。高密指胶片经100%曝i光处冲洗后的实地密度。一般铜版纸印刷所用的晒版菲林要求高密值不低于3.5，通常在3.5～4.5，这样可以保证菲林上的图像信息在晒版时很好地转移到印版上。新闻纸和胶版纸印刷(含地图纸)时，因纸张吸墨性特强和印速高等原因，其高密可适当降低。