设备名称：中频磁控溅射镀膜设备
厂家：东莞汇成真空科技有限公司
主要技术参数及规格：
1.Ф800×H900mm |Ф1100×H1200mm |Ф1350×H1250mm |Ф1600×H1250mm |Ф1900×H1250mm
2.立式双开门、立式单开门
主要配件：真空泵
产品说明：
中频磁控溅射技术已渐成为溅射镀膜的主流技术，它优于直流磁控溅射镀膜的特点是：克服了阳极消失现象。减弱或消除靶的异常弧光放电。因此，提高了溅射过程的工艺稳定性，同时，提高了介质膜的沉积速率数倍。
中频磁控溅射镀膜设备除了在制备金属膜时具有较高的稳定性外，在沉积氮化物、氧化物等介质膜时，解决了过去直流磁控溅射中弧光放电和阳极消失等问题，并具溅射速率快等优点，它能够在长时间内获得较高的沉积速率和维持稳定的镀膜状态。一种中频反应磁控溅射设备二氧化硅膜设备，包括真空镀膜室、双靶、反应气体供气管道、工作气体供气管道、中频电源、压电阀控制器和压电阀，双靶装在屏蔽罩内，真空镀膜室内的反应气体供气管道位于双靶的对称中心线上，中频电源的两个输出端各接到一个靶上，中频电源的控制线压电阀控制器，压电阀和反应气体供气管道构成闭环控制回路。
我公司研发了平面靶，圆柱靶，孪生靶，对靶等多种形式的中频溅射靶结构和布局。该类设备广泛应用于表壳、表带、手机壳、高尔夫球具、五金、餐具等镀TiN、TiC、TICN、TiAIN、CrN等各种装饰镀层。
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