910高填平清亮酸性光亮镀铜工艺
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特点
- 出光速度快,镀层具有优良的光泽度及填平度,可达到全光亮镜面效果。
- 沉积速度快,在4.5 A/dm2的电流密度下,可得到1µm/min 的厚铜层。
- 镀层内应力低,延展性好。
- 镀液稳定易控制,杂质容忍度高,适用于各种类型基体金属(如:铁、铜、锌合金等)及塑料件的电镀。
- 镀液组成及操作条件
原料及操作条件 |
工艺范围 |
标准工艺 |
***铜(CuSO4 . 5H2O) |
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