公司产品包括石英掩膜版,苏打掩膜版,以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图,定制版图,苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务!
光罩(英文:Reticle, Mask),在制作IC的过程中,利用光蚀刻技术,在半导体上形成图型,为将图型复i制於晶圆上,必须透过光罩作用的原理,类似于冲洗照片时,利用底片将影像复i制至相片上。
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图形涨缩 即进行size操作,比如gate处的注入层,从gate size放大而来。完整的光掩膜图形中,除了对应电路的图形外,还包括一些辅助图形或测试图形,常见的有:游标,光刻对准图形,曝i光量控制图形,测试键图形,光学对准目标图形,划片槽图形,和其他名称,版别等LOGO。
公司产品包括石英掩膜版,苏打掩膜版,以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图,光刻板,定制版图,苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务!
光刻掩模板一般用石英玻璃作为基体,采用石英是由于其优良的近紫外透过率。
掩模板挡光部分用Cr,所以有时也叫铬板。
采用灯的g线或i线,取决于你所用的光刻胶,每种光刻胶产品说明都会列出其所敏感的光波段。

光刻板-制版(图)由苏州微麦光电有限公司提供。光刻板-制版(图)是苏州微麦光电有限公司()今年全新升级推出的,以上图片仅供参考,请您拨打本页面或图片上的联系电话,索取联系人:叶佳。