半导体光掩模市场集中度高， 寡头垄断严重， Photronics、大日本印刷株式会社 DNP 和日本凸版印刷株式会社 Toppan 三家占据 80%以上的市场份额。我国的光掩膜版行业仅能够满足国内中低档产品市场的需求，高i档光掩膜版则由国外公司直接提供。目前，国内的光掩膜版企业主要集中在上海、北京、深圳及江浙地方，它们的市场侧***各不相同。
公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！
光刻掩模板一般用石英玻璃作为基体，采用石英是由于其优良的近紫外透过率。
掩模板挡光部分用Cr，所以有时也叫铬板。
采用灯的g线或i线，取决于你所用的光刻胶，每种光刻胶产品说明都会列出其所敏感的光波段。
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掩膜（MASK）是指单片机掩膜是指程序数据已经做成光刻版，在单片机生产的过程中把程序做进去。优点是：程序可靠、成本低。缺点：批量要求大，每次修改程序就需要重新做光刻板，不同程序不能同时生产，供货周期长。
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