HKCVD-1200由开启式单（双）温区管式炉、高真空扩散泵系统、压强控制仪及多通道高精度数字质量流量控制系统组成。可实现真空达0.001Pa混合气体化学气相沉积和扩散试验。
主要功能和特点：
1、高真空系统由前级双级旋片真空泵和后级扩散泵组成，***高真空可达0.001Pa；
2、可配合压强控制仪控制气体压力实现负压的精准控制；
3、数字质量流量控制系统是由多路质量流量计，流量显示仪等组成，实现气体的流量的精密测量和控制；每条气体管路均配备高压逆止阀，保证系统的安全性和连续均匀性。
4、采用KF快速法兰密封，装卸方便快捷；管路采用***Swagelok卡套连接，不漏气；
5、超温、过压时，自动切断加热电源及流量计进气，使用安全可靠。
主要用途和适用范围：
高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD/CVI实验，特别适用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备、纳米线生长、电池材料干燥烧结等场所。
技术参数：
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HKCVD-1200 |
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控温方式 |
采用人工智能调节技术，具有PID调节、自整定功能，并可编制30段升降温程序。 |
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加热元件 |
0Cr27Al7Mo2 |
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工作电源 |
AC220V 50HZ/60HZ |
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额定功率 |
4KW |
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炉管尺寸 |
Φ60/Φ80/Φ100*1000mm |
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工作温度 |
≤1150℃ |
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***高温度 |
1200℃ |
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恒温精度 |
&plu***n;1℃ |
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加热区长度 |
440mm或220mm/220mm |
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升温速度 |
≤20℃/min |
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密封方式 |
不锈钢快速法兰挤压密封 |
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HKCVD-1200-K |
真空范围 |
0.1-0.01Pa |
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极限真空 |
4.0*10^-4Pa |
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产品配置 |
双级旋片真空泵+扩散泵 |
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测量方式 |
复合真空计 |
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真空规管 |
电阻规+电离规 |
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冷却方式 |
水冷 |
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工作电源 |
AC380V 50/60HZ |
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抽 速 |
100L/S |
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HKCVD-1200-I |
测量范围 |
1*10^5～1*10^-1 Pa |
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稳压(真空)范围 |
1*10^3～1*10Pa |
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压力(真空)稳定精度 |
&plu***n;3% |
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控制范围 |
2.5*10^3～5*10^-1 Pa |
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控制精度 |
&plu***n;1% |
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HKCVD-1200-Ⅲ |
控制方式 |
D07-7K质量流量计,D08流量显示仪 |
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流量规格 |
0－500SCCM /0－1SLM（可根据客户需要配置） |
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线 性 |
&plu***n;1%F.S |
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准确度 |
&plu***n;1%F.S |
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重复精度 |
&plu***n;0.2%F.S. |
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响应时间 |
≤2sec |
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耐 压 |
3MPa |
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气路通道 |
3通道（根据客户需求） |
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针 阀 |
316不锈钢 |
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管 道 |
Φ6mm不锈钢管 |
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接 口 |
SwagelokΦ6mm |
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