果泥胶体磨,苹果泥胶体磨,西梅泥胶体磨,蓝莓泥胶体磨,草莓泥胶体磨,有机西梅泥胶体磨等等是由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由泵产生)加压产生 向下的螺旋冲击力,透过定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎
果泥的粉碎
影响研磨粉碎结果的因素有以下几点
2 胶体磨磨头头的剪切速率 (越大,效果越好)
3 胶体磨头的齿形结构(分为初齿,中齿,细齿,超细齿,约细齿效果越好)
4 物料在研磨腔体的停留时间,研磨粉碎时间(可以看作同等的电机,流量越小,效果越好)
5 循环次数(越多,效果越好,到设备的期限,就不能再好)
线速度的计算
剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-转子 间距 (m)
由上可知,剪切速率取决于以下因素:
转子的线速率
在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。
IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D(转子直径)X 转速 RPM / 60
体磨与国内胶体磨的性能比较:
- 转速和剪切速率:IKN纳米胶体磨,可选择德国机械密封,转速可以达到15000转F=23/0.7X1000=32857S-1F=40/0.7/X1000=57142S-1国内胶体磨,可选择机械密封一般3000转,大约在14293-215440S-1通过转速比较可知,这是乳粉碎研磨的重要因素,相当于前者是后者的2-3倍
- 胶体磨头和间距:IKN纳米胶体磨,可以选择六种不同的模块头,实现多种功能,如三级乳化模块,超高速模块,CM胶体模块,CMO胶体模块,批次粉液液混合模块,连续粉液混合模块。间距可调,可实现1-10微米小粒径材料加工国内胶体磨,只有一种模块头,粒径细度有限,100微米以下较困难,重复性差
- 机械密封:IKN纳米胶体磨,双机械密封,易于清洗,将泄漏降至***低,可24小时不停运转国内胶体磨,单机械密封或轴封,泄漏故障率高,产品泄漏进入马达,造成马达烧毁
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定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。
②齿列的深度:从开始的2.7mm 到末端的0.7mm,范围比较大,范围越大,处理的物料颗粒大小越广。
③沟槽的结构式斜齿,每个磨头的沟槽深度不一样,并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下。
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体磨 |
流量* |
输出 |
线速度 |
功率 |
入口/出口连接 |
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类型 |
l/h |
rpm |
m/s |
kW |
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700 |
9,000 |
23 |
2.2 |
DN25/DN15 |
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CM 2000/5 |
3,000 |
6,000 |
23 |
7.5 |
DN40/DN32 |
|
CM 2000/10 |
8,000 |
4,200 |
23 |
22 |
DN50/DN50 |
|
CM 2000/20 |
20,000 |
2,850 |
23 |
37 |
DN80/DN65 |
|
CM 2000/30 |
40,000 |
1,420 |
23 |
55 |
DN150/DN125 |
|
CM 2000/50 |
80,000 |
1,100 |
23 |
110 |
DN200/DN150 |
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*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到***大允许量的10%。 |
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