公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！
光刻掩模板一般用石英玻璃作为基体，采用石英是由于其优良的近紫外透过率。
掩模板挡光部分用Cr，所以有时也叫铬板。
采用灯的g线或i线，取决于你所用的光刻胶，每种光刻胶产品说明都会列出其所敏感的光波段。
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在接触式光学微影技术中，光罩表面的遮光图案会与基板上的光阻层接触摩擦，容易使得遮光图案耗损使得光罩使用寿命缩短。另外，当涂布有光阻层的基板表面不是非常平整时，光罩与光阻层会产生不确定的空隙与距离，而造成光线的散射与绕射，进而造成曝i光的尺寸误差，并且造成光阻层浅层部分的侧向曝i光范围扩大，因而无法制作出高深宽比的光阻结构。
公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，光刻板，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！
接触式光学微影技术所使用的光罩，其表面特征图案尺寸与实际复i制于基板上的图案为1:1的比例，以直接贴近于光阻层表面的方式进行曝i光；而倍缩微影技术所使用的光罩，其表面特征图案尺寸则为实际复i制于基板上图案的数倍，经由光学系统投射的方式对光阻进行曝i光。
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