公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！
在接触式光学微影技术中，光罩表面的遮光图案会与基板上的光阻层接触摩擦，容易使得遮光图案耗损使得光罩使用寿命缩短。另外，当涂布有光阻层的基板表面不是非常平整时，光罩与光阻层会产生不确定的空隙与距离，而造成光线的散射与绕射，进而造成曝i光的尺寸误差，并且造成光阻层浅层部分的侧向曝i光范围扩大，因而无法制作出高深宽比的光阻结构。
光掩膜版行业的发展主要受下游平板显示行业、触控行业、半导体行业和电路板行业的发展影响，与下游终端行业的主流消费电子 （手机、平板、可穿戴设备）、笔记本电脑、车载电子、网络通信、家用电器、LED 照明、物联网、医i疗电子等产品的发展趋势密切相关，预计未来几年我国光掩膜版行业将向大尺寸、精细化、全产业链方向发展。2011年我国光掩膜版生产规模为0.87万平方米，2016年生产规模增长至1.69万平方米，复合增长率达到14.20%。
目前***范围内光刻掩膜版主要以***生产商为主。由于下游应用领域厂商自建光刻掩膜版生产线的投入产出比很低，且光刻掩膜版行业具有一定的技术壁垒，所以光刻掩膜版都是由***的生产商进行生产。
据统计：根据 SEMI， 目前***半导体光刻掩膜版市场规模近 34 亿美元，即 210 亿人民i币。未来光刻掩膜版市场增长速度将在 5%左右。2015年我国光掩膜版需求市场规模为56.7亿元，2016年国内需求市场规模增长至59.5亿元，规模较上年同期增长4.9%。
从我国光掩膜版的需求量来看，行业需求稳定增长，2016年需求量达到了7.98万平方米。
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