公司产品包括石英掩膜版，光刻板，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！
实体结构：布满集成电路图像的铬金属薄膜的石英玻璃片上的图像。倍缩光掩模（Reticle）：当铬膜玻璃仅能局部覆盖晶圆称为倍缩光掩模，通常图型要放大4倍、5倍或10倍。光掩模（Mask）：当铬膜玻璃上的图像能覆盖整个晶圆时称之为光罩。
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为了避免掩膜版对待蒸镀基板造成损害，通常是在掩膜版上设置一保护膜，该保护膜由有机材料制成，当保护膜与待蒸镀基板接触时，保护膜对待蒸镀基板造成的损害小于掩膜版对待蒸镀基板造成的损害。
什么是光刻掩模板
在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精i确***，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝i光的一种结构，称为光刻掩模版。
半导体集成电路制作过程通常需要经过多次光刻工艺，在半导体晶体表面的介质层上开凿各种掺杂窗口、电极接触孔或在导电层上刻蚀金属互连图形。光刻工艺需要一整套（几块多至十几块）相互间能精i确套准的、具有特定几何图形的光复印掩蔽模版。
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