公司产品包括石英掩膜版,苏打掩膜版,以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图,定制版图,苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务!
由于掩膜版是设计和制造的重要衔接,晶圆制造厂商都有自己的***工厂来生产自身需要的掩膜版,因此***的掩膜版技术也是掌握在具有***晶圆制造制程的晶圆厂手中。但近年来掩膜版外包的趋势非常的明显,特别是对于一些 60nm 及 90nm 以上制程的低端产品。 外包的掩膜版市场份额从2003 年时的 30%上升至 2014 年的 53%。

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接触式光学微影技术所使用的光罩,其表面特征图案尺寸与实际复i制于基板上的图案为1:1的比例,以直接贴近于光阻层表面的方式进行曝i光;而倍缩微影技术所使用的光罩,其表面特征图案尺寸则为实际复i制于基板上图案的数倍,经由光学系统投射的方式对光阻进行曝i光。

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掩膜版的制作方法
提供一种掩膜版,包括对盒设置的第i一基板和第二基板;所述第i一基板下方设有阵列像素单元,每个所述像素单元包括i 一个薄膜晶体管 TFT ;所述第二基板上方设有透明导电层;所述透明导电层和所述阵列像素单元之间填充液晶;所述透明导电层和所述阵列像素单元表面分别设有配向膜层,用于使液晶分子沿 所述配向膜层表面的取向槽排列; 所述第i一基板上方设有第i一偏光器件;所述第二基板下方设有第二偏光器件;还包括驱动单元,用于向所述阵列像素单元施加等级电压,以控制所述掩模版的 入射光通过强度。
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