光刻板-苏州制版(推荐商家)

在刻画时，采用步进机刻画(stepper)，其中有电子束和激光之分，激光束直接在涂有铬层的4-9“ 玻璃板上刻画，边缘起点5mm，与电子束相比，其弧形更逼真，线宽与间距更小。光掩膜有掩膜原版(reticle mask，也有称为中间掩膜，reticle作为单位译为光栅)，用步进机重复将比例缩小到master maks上，应用到实际曝i光中的为工作掩膜(working mask)，工作掩膜由master mask复i制过来。

公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！

什么是掩膜

首先我们从物理的角度来看看mask到底是什么过程。

在半导体制造中，许多芯片工艺步骤采用光刻技术，用于这些步骤的图形“底片”称为掩膜（也称作“掩模”），其作用是：在硅片上选定的区域中对一个不透明的图形模板遮盖，继而下面的腐蚀或扩散将只影响选定的区域以外的区域。

图像掩膜与其类似，用选定的图像、图形或物体，光刻板，对处理的图像（全部或局部）进行遮挡，来控制图像处理的区域或处理过程。

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什么是菲林...菲林film方∶胶卷，摄影用的感光片和胶卷，电影用软片，是旧时对film的翻译，现一般是指胶卷，也可以指印刷制版中的底片。

0.1mm厚度的软片菲林都是黑色的，菲林的边角一般有一个英文的符号，是菲林的编号，标明该菲林是C、M、Y、K中的哪一张，是cmyk的其中一个（或专色号），表示这张菲林是什么色输出的，如果没有，可以看挂网的角度，来辨别是什么色。旁边的阶梯状的色条是用来进行网点密度校对的。

还有一种0.175mm后的银盐菲林统称光绘黑片，有遮光度和透光度的要求，即黑白分明（一般遮光度gt;4.0，透光度小宇0.04）。其镭射光源为650~670纳米的红色激光，类似高i端的富士XPR-7S级别菲林，线宽精度可以做到±1.5um级别；尺寸涨缩影响随环境变化，每1℃温度或每1%RH湿度改变，变化系数约为0.001%。