苏州制版位于苏州工业园区生物纳米园,是集研究、设计、生产、销售于一体,***制作高精度掩膜版的企业,拥有高标准的全净化厂房,优i秀的高素质人才、***的研发团队。 苏州制版,面向中小企业、大学、研究所客户,提供包括全系列精度和面积的铬版和菲林版!根据客户的构想、草图,独i家定制版图提供技术咨询服务!
苏州制版提供包括全系列精度和面积的铬版和菲林版,目前投入生产有多台激光直写设备以及电子束曝i光设备。常规铬版CD精度±0.2um,高精石英铬版精度±0.07um。菲林版分辨率20um以上精度±2um。曝i光设备外,还拥有全自动显影柜,可以批量进行显影处理,保证生产能力。在图形检验阶段我们拥有自动光学检验机台(AOI),通过图形逻辑对比分析取样,修补能力1.2um,精度±0.1um。可以有效地排除缺陷问题。

公司产品包括石英掩膜版,苏打掩膜版,以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图,制版,定制版图,苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务!
光刻是使用***的半导体器件制造过程中的重要步骤i光和显影描绘光致抗蚀剂层上的几何结构,然后通过蚀刻工艺将光掩模上的图案转移到衬底上。这里提到的衬底不仅包括硅晶片,还包括其他金属层和电介质层,例如SOS中的玻璃和蓝宝石。
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什么叫掩膜***i先人们从物理学的视角讨论一下mask究竟是什么全过程。在半导体设备中,很多集成ic加工工艺流程选用光刻技术,用以这种流程的图型“胶片照片”称之为掩膜(也称之为“掩模”),其***是:在硅片上选中的地区中对1个不全透明的图型模版遮住,进而下边的浸蚀或外扩散将只危害选中的地区之外的地区。图象掩膜两者之间相近,用选中的图象、图型或物块,对解决的图象(所有或部分)开展挡住,来操纵图象处理的地区或处理方式。-
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