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磁控溅射的工作分类：

当前采用磁控溅射法主要是用于制作金属不导电膜，多采用圆柱靶。方法又分为连续镀和间歇镀两种。相对来讲连续式磁控溅射生产线在技术上和实际操作可控性方面已经相当成熟，按照工艺做出来的产品也是相当的***，但机器造价偏高所以市面上投入使用的厂家较少。只有具备充足的资金和业务资源的厂家才会采用这种工艺。

产品相关：真空镀膜机，真空镀膜设备。间歇式磁控溅射法:在技术上本身就存在较多的客观的缺陷，又是现目前为止***性的难题。因此这种工艺还只是停留在1200MM以下的小型设备和高附加值的产品上，在产能和质量方面将无法与采用其他工艺的同行进行竞争。

定期清洁真空室并尽量抹干，新沂镀膜设备，每次都彻底洗干净，以免造成越来越难洗的现象。烘干后再镀膜，头一炉应比原来延长四倍时间才镀膜。

定期更换扩散泵油，更换真空泵及罗茨泵油。更换扩散泵油前一定要确认真空度是否低于1X102Pa，扩散泵里面的油温是否彻底冷却到常温状态后，镀膜设备供应商，方可进行加热或充大气进行拆卸，PVC镀膜设备，否则会产生伤害人的严重后果。

平时整个系统要保持真空状态，工作前才充入气体，不要使真空室长期暴露在大气中。

磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点：利用磁场与电子交互作用，使电子在靶表面附近成螺旋状运行，真空镀膜设备销售，从而增大电子撞击***气产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材。在近几十年的发展中，大家逐渐采用***磁铁，很少用线圈磁铁。

靶源分平衡和非平衡式，平衡式靶源镀膜均匀，非平衡式靶源镀膜膜层和基体结合力强。平衡靶源多用于半导体光学膜，非平衡多用于磨损装饰膜。