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能保护金属膜层。膜层的耐磨性和抗变色能力较差，施涂面涂层后，DLZ设备哪家好，镀膜层与外界不直接接触，对镀膜层能起保护作用。真空镀中对底涂层的要求：

对镀件与镀膜层有良好的接触性能与较高的结合力，热膨胀系数相差小，DLZ设备，不起反应，流平性能好。

具有良好的真空性能。底涂层固化后放气量少、热应力小、耐热性能好。

成膜性能好，涂层的致密度、覆盖能力、抗溶剂能力与耐光照能力等性能良好。

与面涂层有良好的相溶性。由于镀膜层极薄有孔隙，要求底涂层和面涂层的溶剂和稀释剂有良好的相溶性。施涂性能良好。流平性能良好，有适当的黏度、固化时间短。

涂层的作用和要求：

装饰性真空镀膜的涂层一般分为底涂层和面涂层两种。为了满足产品的不同技术要求，可施涂底涂层和面涂层，或在面涂层上再施涂彩色涂层、保护涂层等。这些涂层的主要作用是：提高膜层的结合力。采用相同的镀膜方法，在塑料基体上施涂底涂层再真空镀膜，DLZ设备价格，可提高膜层的结合力。降低镀件表面的粗糙度，提高光亮度。一般镀件表面都存在微观不平整度，不一定厚度涂料的整平性，可以填补镀件表面的缺陷，使镀件表面达镜面平整度。

磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点：利用磁场与电子交互作用，使电子在靶表面附近成螺旋状运行，DLZ设备厂家，从而增大电子撞击***气产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材。在近几十年的发展中，大家逐渐采用***磁铁，很少用线圈磁铁。

靶源分平衡和非平衡式，平衡式靶源镀膜均匀，非平衡式靶源镀膜膜层和基体结合力强。平衡靶源多用于半导体光学膜，非平衡多用于磨损装饰膜。