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把靶材与基底之间的距离改变，当距离越大，沉积速率就越低，相反就越高，所以要设定好靶材与基底的距离，距离大了，离子随着磁场所产生的电流沉积到基底上的时间就长了，在此时间内受到真空镀膜设备中的气体散射的影响就多了，离子密度相对降低，距离短就受影响少，镀膜设备报价，离子密度就高，但不是越短越好的，太短距离就相对减少成膜的面积，所以这个距离需要拿捏好，可以提高磁控溅射镀膜时的沉积速率。从上述的表述我们可以知道，磁控溅射镀膜机的技术还是十分有效的真空镀膜机和镀膜机的区别镀膜技能商品技能特色。

水镀的镀层厚度比真空镀厚，耐磨性也比真镀好.

说说我的个人见解， 区别如下: 真空镀工艺环保，水镀就存在隐患，真空镀工艺类似烤漆制程，镀膜设备公司，水镀就不一样 ，真空镀的附着力相对于水镀来说较高，要加UV。