真空镀膜机溅镀的原理是什么
溅镀，一般指的是磁控溅镀，归于高速低温溅镀法.
该技能请求真空度在1×10-3Torr摆布，即1.3×10-3Pa的真空状况充入慵懒气体，并在塑胶基材(阳极)和金属靶材(阴极)之间加上高压直流电，因为辉光放电发生的电子激起慵懒气体，发生等离子体，等离子体将金属靶材的原子轰出，堆积在塑胶基材上.以几十电子伏特或更高动能的荷电粒子炮击资料外表，使其溅射出进入气相，可用来刻蚀和镀膜。两者的不同点是：PVD镀膜膜层与工件表面的结合力更大，膜层的硬度更高，耐磨性和耐腐蚀性更好，膜层的性能也更稳定。入射一个离子所溅射出的原子个数称为溅射产额产额越高溅射速度越快。一般在0.1-10原子/离子。离子能够直流辉光放电发生，在10-1—10 Pa真空度，在两极间加高压发生放电，正离子会炮击负电之靶材而溅射也靶材，而镀至被镀物上。
真空镀膜设备（真空镀膜机）：是对产品进行表面处理，它的工艺种类也比较的多，有磁控溅射，高真空蒸发，多弧离子等适应不同类型客户的要求。一，要确认漏气到底的虚漏还是实漏，因为工件材料加热后都会在不同程度上产生气体，有可能误以为是从外部流进的气体，这就是虚漏，要排除这种情况。镀膜设备：所有镀膜用的机械设备统称镀膜设备或者镀膜机，有化学镀膜和物理镀膜之分，水电镀属于化学镀，而真空镀膜则是物理镀膜，化学镀膜对于环境的污染是很严重的，真空镀膜是电镀行业中***环保的。整个镀膜行业被物理和化学镀膜占据，他们的发展左右着我国整个镀膜行业的发展，而随着环保的提倡，化学镀膜渐渐减少，环保物理镀膜占据更多江山，镀膜真空设备成为了这个行业发展的指标，政策对环保设备的大力支持未来真空设备的发展将更加广阔。
真空电镀即真空蒸发镀膜﹐其原理是在高度真空条件下(1.3×10-2~1.3×10-1Pa)使金属铝片受热蒸发并附于(塑料)工件表面﹐形成一层金属膜的方法﹒真空镀膜设备真空电镀机真空电镀的特点:1、真空镀膜所获得的金属膜层很薄(一般为0.01~0.1um),能够严格***出啤件表面的形状2、工作电压不是很高(200V)﹐操作方便﹐但设备较昂贵﹒3、蒸镀锅瓶容积小﹐电镀件出数少﹐生产效率较低﹒
