PVD镀膜是物理蒸汽沉积。不锈钢镀膜,也叫不锈钢钛/锆镀膜,镀膜设备,就是在一个真空容器内,在不锈钢表面形成钛/锆化合物的离子膜层,膜层能在室外环境下长年不褪色。 工作原理,在高温,真空钛金炉内,钛、锆金属。借用惰性气体的辉光放电使金属或合金蒸气离子化,离子经电场加速而沉积带负电荷的不锈钢板上,从而形成色泽丰富艳丽的金属膜。色泽永恒的PVD镀膜。PVD镀膜不同与传统的电镀等方式,因为其独特的性能,高硬度,防磨檫,不剥落,不褪色,镀膜设备报价,高度防腐。








靶源分平衡和非平衡式,平衡式靶源镀膜均匀,非平衡式靶源镀膜膜层和基体结合力强。平衡靶源多用于半导体光学膜,非平衡多用于磨损装饰膜。不管平衡非平衡,若磁铁静止,其磁场特性决定一般靶材利用率小于30%。为增大靶材利用率,可采用旋转磁场。但旋转磁场需要旋转机构,PVC镀膜设备,同时溅射速率要减小。旋转磁场多用于大型或贵重靶。如半导体膜溅射。对于小型设备和一般工业设备,多用磁场静止靶源。

真空镀膜工艺对环境有哪些要求?真空镀膜加工中,真空镀膜工艺衬底(也就是基片)表面清洁处理非常重要。基片进入镀膜室前均应进行认真的镀前清洁处理,达到工件去油、去污和脱水的目的。那么真空镀膜工艺对环境有什么要求呢?

我们知道,基片表面污染一般来自零件在加工、运输以及包装中所粘附的各粉尘、润滑油、机油、抛光膏、油脂、汗渍等物;零件表面在潮湿空气中生成的氧化膜;零件表面吸收和吸附的气体。这些污物基本上均可采用去油或化学清冼方法将其去掉。
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