溅镀机设备与技能(磁控溅镀)
溅镀机由真空室，排气系统，溅射源和操控系统构成。溅射源又分为电源和溅射枪磁控溅射枪分为平面型和圆柱型，其间平面型分为矩型和圆型，靶资料利用率30- 40%，圆柱型靶资料利用率gt;50% 溅射电源分为：直流、射频、脉冲， 直流：800-1000V(Max)导体用，须可灾弧。把握检漏仪器的反应时刻和消除时刻，把时刻把握好，确保检漏仪器作业到位，时刻少了，检漏作用肯定差，时刻长了，浪费检漏气体和人工电费。
射频：13.56MHZ，非导体用。脉冲：泛用，新发展出溅镀时须操控参数有溅射电流，电压或功率，以及溅镀压力(5×10-1—1.0Pa)，若各参数皆安稳，膜厚能够镀膜时刻估量出来。
如今真空这个词已经被广泛的应用到各个领域，真空的目的是为了保护，真空是***干净的，极限的真空不存在污染物，使产品减少受到杂质的侵袭，减少损失，弥补正常环境下的缺点和不足，这也是大众很看好喜爱真空的因素。
沈阳百乐真空技术有限公司（原沈阳市真空机械三厂）成立于1979年。位于沈阳市沈北新区道义镇。是真空设备行业协会理事单位，中国真空学会理事单位，本公司加工设备齐全，检测手段完善，并在2001年通过了ISO9001:2000质量管理体系认证，具有很强的技术能力和加工制造能力,并与清华大学、武汉大学、东北大学等多所真空******院校保持着长期、稳定的合作关系。平时整个系统要保持真空状态，工作前才充入气体，不要使真空室长期暴露在大气中。
靶源分平衡和非平衡式，平衡式靶源镀膜均匀，非平衡式靶源镀膜膜层和基体结合力强。平衡靶源多用于半导体光学膜，非平衡多用于磨损装饰膜。不管平衡非平衡，若磁铁静止，其磁场特性决定一般靶材利用率小于30%。为增大靶材利用率，可采用旋转磁场。但旋转磁场需要旋转机构，同时溅射速率要减小。旋转磁场多用于大型或贵重靶。离子镀膜是真空室中，利用气体放电或者被蒸发物质部分离化，在气体离子或被蒸发物质粒子轰击作用的同时，将蒸发物或反应物沉积在基片上。如半导体膜溅射。对于小型设备和一般工业设备，多用磁场静止靶源。
