真空镀膜设备多弧离子镀膜工艺不仅避免了传统表面处理的不足，且各项技术指标都优于传统工艺，在五金、机械、化工、模具、电子、仪器等领域有广泛应用。A2:PVD技术主要分为三类，真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。催化液和传统处理工艺相比，在技术上有哪些创新？多弧离子镀膜不用电、降低了成本、成本仅为多弧离子镀膜镍的二分之一，真空镀膜机多弧离子镀膜铬的三分之一，不锈钢的四分之一，可反复利用，大大降低了成本。多弧离子镀膜易操作、工艺简单、把金属基件浸入兑好的液体中“一泡即成”，需要再加工时不经任何处理。
在检漏真空镀膜机过程中，须注意一些问题，才可以把检漏工作做好。
一，要确认漏气到底的虚漏还是实漏，因为工件材料加热后都会在不同程度上产生气体，有可能误以为是从外部流进的气体，这就是虚漏，要排除这种情况。
二，测试好真空室的气体密封性能，确保气密性能符合要求。
三，检查漏孔的大小，形状、位置，漏气的速度，制备出可解决方案并实施。
四，确定检测仪器的可检漏率和检漏灵敏性，以大范围的检测出漏气情况，避免一些漏孔被忽略，提高检漏的准确性。
靶源分平衡和非平衡式，平衡式靶源镀膜均匀，非平衡式靶源镀膜膜层和基体结合力强。平衡靶源多用于半导体光学膜，非平衡多用于磨损装饰膜。黑钛不锈钢板制作工艺有电镀上色跟水镀上色两种，电镀上黑色的黑钛不锈钢板颜色比较纯正，水镀的黑色不锈钢的颜色比较鲜艳，如果选用304不锈钢板水镀黑钛，颜色有些偏蓝。不管平衡非平衡，若磁铁静止，其磁场特性决定一般靶材利用率小于30%。为增大靶材利用率，可采用旋转磁场。但旋转磁场需要旋转机构，同时溅射速率要减小。旋转磁场多用于大型或贵重靶。如半导体膜溅射。对于小型设备和一般工业设备，多用磁场静止靶源。
