空镀膜机电化学沉积指的是用电化学方法在金属或非金属制件表面沉积一层或多层金属镀层或合金镀层或复合镀层的技术。若真空蒸发镀膜机使用了非常长的时间，会发现抽真空变慢，须更换机台防着板，之后加温烘烤。通常是，表面具有导电能力的制件，于电解质溶液中，被置于阴极，在外电流的作用下，该溶液中的金属离子，或络合离子在制件表面，即阴极表面发生还原反应，使金属沉积在制件的表面，这一过程又叫金属电沉积，俗称电镀。
涂层的镀膜机控制方法是***直接的石英晶体微天平（QCM）的方法，该仪器可以直接驱动的蒸发源，通过PID控制回路传动挡板，使蒸发率。以上就是一些提高真空镀膜设备抽速的方法，做好这些，相信抽速就会快起来。只要仪器和系统控制软件的连接，它可以控制涂层的全过程。但（QCM）的准确性是有限的，镀膜机部分原因是其监测代替光学厚度的涂层质量。
此外，虽然QCM在低温下非常稳定，但温度高，它将成为对温度很敏感。在长时间的加热过程中，镀膜机很难避免传感器为敏感的区域，导致薄膜的重大错误。 光学监测是一种高精度涂层优选的监控模式，镀膜机这是因为它能准确控制膜的厚度（如果使用得当）。
炉体可选择由不锈钢、碳钢或它们的组合制成的双层水冷结构。真空镀膜设备根据工艺要求选择不同规格及类型的镀膜设备，其类型有电阻蒸发、电子束蒸发、磁控溅射、磁控反应溅射、离子镀、空心阴极离子镀、多弧离子镀等。
夹具运转形式有自转、公转及公转 自转方式，用户可根据基片尺寸及形状提出相应要求，转动的速度范围及转动精度：普通可调及变频调速等。
