真空镀膜机首要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射堆积等很多种。首要思路是分红蒸发和溅射两种。需要镀膜的被变成基片，镀的材料被变成靶材。检验是个细致活，任何细微的地方都可能是问题所在，都可能影响到镀膜的效果，因此在检查真空镀膜设备的过程中一定要注意以上的事项。 基片与靶材同在真空腔中。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子方法被蒸发出来，而且沉降在基片表面，经过成膜进程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）构成薄膜。
真空镀膜机溅射和蒸发有什么区别？
蒸发加热目标表面成分自由基或离子形式被蒸发，并在衬底表面处理，成膜过程（散射-岛结构的迷走***结构层状生长）形成薄膜。
蒸发镀膜成分均匀性不易保证，与特定的因素可以控制，但由于有限的原理，对非单组分涂料，蒸发镀膜成分均匀性不好。 溅射可以简单地理解为电子或高能激光轰击目标的使用，使得表面成分的自由基或离子形式溅射，并沉积在衬底表面的成膜过程中，经验，***终形成薄膜。电气控制柜里的电器元件有高压，所以不可以把***放置在柜内或者触摸电器元件。真空镀膜机的设备 溅射被分为许多类型，在溅射速率不同点和蒸发将成为一个主要的参数。
真空电镀加工条件有五种，分别为：
一、整流器设备：提供直流电源的电力设备。
二、阳极：若是可溶性阳极，则为欲塑胶真空电镀的塑胶真空电镀金属部分。若是不可溶性阳极，大部分为***或者五金类(白金，氧化铱)。
三、塑胶真空电镀槽或者塑胶真空电镀缸：可以承受并储存塑胶真空电镀***的槽体或者缸体，一般考虑强度，耐蚀，耐温等环境因素。
四、阴极：被塑胶真空电镀的素材或者其他货物，指各种接插件端子。
五、塑胶真空电镀的***成分：含有欲镀金属离子的各类型调配的不同浓度的塑胶真空电镀***。