炉体可选择由不锈钢、碳钢或它们的组合制成的双层水冷结构。真空镀膜设备根据工艺要求选择不同规格及类型的镀膜设备，其类型有电阻蒸发、电子束蒸发、磁控溅射、磁控反应溅射、离子镀、空心阴极离子镀、多弧离子镀等。
夹具运转形式有自转、公转及公转 自转方式，用户可根据基片尺寸及形状提出相应要求，转动的速度范围及转动精度：普通可调及变频调速等。
真空电镀是真空镀膜工艺的一项新发展。真空电镀当高温蒸发源通电加热后，真空电镀促使待镀材料—蒸发料熔化蒸发。真空电镀蒸发料粒子获得一定动能，镀膜设备厂商，真空电镀则沿着视线方向徐徐上升，***后真空电镀附着于工件外表上堆积成膜。真空电镀用这种工艺形成的镀层，真空电镀与零件外表既无牢固的化学结合。
真空电镀的简单作用过程：真空电镀接通蒸发源交流电源，真空电镀蒸发料粒子熔化蒸发，真空电镀进入光放电区并被电离。
真空镀膜机溅射和蒸发有什么区别？
蒸发加热目标表面成分自由基或离子形式被蒸发，并在衬底表面处理，绍兴镀膜设备，成膜过程（散射-岛结构的迷走***结构层状生长）形成薄膜。
蒸发镀膜成分均匀性不易保证，与特定的因素可以控制，但由于有限的原理，镀膜设备哪家好，对非单组分涂料，蒸发镀膜成分均匀性不好。 溅射可以简单地理解为电子或高能激光轰击目标的使用，使得表面成分的自由基或离子形式溅射，并沉积在衬底表面的成膜过程中，经验，***终形成薄膜。真空镀膜机的设备 溅射被分为许多类型，在溅射速率不同点和蒸发将成为一个主要的参数。
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