在电子学方面真空镀膜更占有极为重要的地位。各种规模的继承电路。包括存贮器、运算器、告诉逻辑元件等都要采用导电膜、绝缘膜和保护膜。作为制备电路的掩膜则用到铬膜。磁带、磁盘、半导体激光器，约瑟夫逊器件、电荷耦合器件（ CCD ）也都甬道各种薄膜。真镀膜设备在重新开机时要特别注意捡漏工作，先观察扩散泵部分是否达到6*10PA，否则需要进行检漏。
在显示器件方面，录象磁头、高密度录象带以及平面显示装置的透明导电膜、摄像管光导膜、显示管荧光屏的铝衬等也都是采用真空镀膜法制备。
每完成200以上的涂层工艺真空镀膜机，应清洁工作室的时间。方法：溶液反复擦洗真空室壁，（注意***的皮肤不能用溶液直接接触，避免灼伤）的目的是使铝薄膜材料镀（Al）和释放，氢。冲洗真空室和布图***清洗污垢在阀。
当泵（泵，旋片泵）一个月（季半），真空镀膜机必须更换新油。方法：拧下油螺栓，放掉旧油，然后泵启动几秒钟，旧机油泵完全排出。拧回放油螺栓，添加新油定量量（油镜观察）。
真空电镀加工条件有五种，分别为：
一、整流器设备：提供直流电源的电力设备。
二、阳极：若是可溶性阳极，则为欲塑胶真空电镀的塑胶真空电镀金属部分。若是不可溶性阳极，大部分为***或者五金类(白金，氧化铱)。
三、塑胶真空电镀槽或者塑胶真空电镀缸：可以承受并储存塑胶真空电镀***的槽体或者缸体，一般考虑强度，耐蚀，耐温等环境因素。
四、阴极：被塑胶真空电镀的素材或者其他货物，指各种接插件端子。
五、塑胶真空电镀的***成分：含有欲镀金属离子的各类型调配的不同浓度的塑胶真空电镀***。