镀钛是作为金属材料的表面处理的一种工艺,现在已经在工业领域普遍应用并有逐渐推广使用的意向。
在二十世纪七十年代末，人类就已经开始物***相沉积技术，即PVD技术。物***相沉积技术可以应用在硬质膜的制造上，它能够提高产品的机械化学性能，使制造出的产品具有高耐磨性、高硬度等性能，还可以减轻摩擦作用。这种技术在刚开始使用时，就在世界各国的工具制造业引起了巨大的反响，受到了高度重视。点可蒸发任何材料薄膜纯度高直接作用于材料表面，热缺点电子枪结构复杂，造价高化合物沉积时易分解，化学比失调3激光蒸发镀膜采用高能激光束对材料进行蒸发，用以形成薄膜的方法，一般称为激光蒸镀。同时，这种技术工艺符合现代人们对环境无污染加工技术的要求，是一种绿色环保的技术。
首先，带有正电位的引弧针（阳极）靠近带有负电位的靶材（阴极），阴阳两极距离足够小时，两极间的气体会被击穿，形成弧电流，这与电焊的引弧相类似。首先，带有正电位的引弧针（阳极）靠近带有负电位的靶材（阴极），阴阳两极距离足够小时，两极间的气体会被击穿，形成弧电流，这与电焊的引弧相类似。射频溅射采用射频电源代替直流电源，在靶和衬底间施加高频电压，溅射时，靶极会产生自偏压效应（即靶极会自动处于负电位状态），使绝缘靶的溅射得到维持。此时，部分N2发生离化，形成氮的阳离子以及电子。
溅射镀膜基本原理：充(Ar)气的真空条件下，使气进行辉光放电，这时(Ar)原子电离成离子(Ar )，离子在电场力的作用下，加速轰击以镀料制作的阴极靶材，靶材会被溅射出来而沉积到工件表面。 溅射镀膜中的入射离子，一般采用辉光放电获得，在l0-2Pa～10Pa范围，所以溅射出来的粒子在飞向基体过程中，易和真空室中的气体分子发生碰撞，使运动方向随机，沉积的膜易于均匀。PVD是英文PhysicalVaporDeition（物***相沉积）的缩写，是指在真空中将钛、金、石墨、水晶等金属或非金属、气体等材料利用溅射、蒸发或离子镀等技术，在基材上沉积形成不同颜色和质感的薄膜。
较为成熟的 PVD 方法主要有多弧镀与磁控溅射镀两种方式。多弧镀设备结构简单，容易操作。它的离子蒸发源靠电焊机电源供电即可工作，其引弧的过程也与电焊类似，具体地说，在一定工艺气压下，引弧针与蒸发离子源短暂接触，断开，使气体放电。阴极电弧离子镀的放电类型与前面几种离子镀的放电类型均不相同，它采用的是冷弧光放电。由于多弧镀的成因主要是借助于不断移动的弧斑，在蒸发源表面上连续形成熔池，使金属蒸发后，沉积在基体上而得到薄膜层的，与磁控溅射相比，它不但有靶材利用率高，更具有金属离子离化率高，薄膜与基体之间结合力强的优点。