基于氮化钛优良的导电性能，可做成各种电极以及点触头等材料。
（9）氮化钛的超导临界温度较高，可作为优良的超导材料。
（10）氮化钛的熔点高于大多数过渡金属氮化物，密度低于大多数金属氮化物，从而成为一种独特的耐火材料。
氮化钛可以作为一种膜镀在玻璃上，在红外线反射率大于75%的情况下，当氮化钛薄膜厚度大于90nm时，能有效提高玻璃的保温性能。另外，调整氮化钛中氮元素的百分含量，可以改变氮化钛薄膜的颜色，从而达到理想的美观效果。 次数用完API KEY 超过次数限制
不同应用时输出镜有不同透过率的要求，因此必须采用光学镀膜方法。对于CO2激光灯中红外线波段，常用的镀膜材料有氟化钇、氟化镨、锗等；对于YAG激光灯近红外波段或可见光波段，常用的镀膜材料有硫化锌、氟化镁、二氧化钛、氧化锆等。除了高反膜、增透膜之外，还可以镀对某波长增反射、对另一波长增透射的特殊膜，如激光倍频技术中的分光膜等。光学镀膜基本原理光的干涉在薄膜光学中广泛应用。光学薄膜技术的普遍方法是借助真空溅射的方式在玻璃基板上涂镀薄膜，一般用来控制基板对入射光束的反射率和透过率，以满足不同的需要。 次数用完API KEY 超过次数限制
在室温(25℃)和气体压力为p(Pa)的条件下，残余气体分子的平均自由程为λ=6.65×10-1/pcm(2)由上式计算可知，在室温下，p=10-2Pa时，λ=66.5cm，即一个分子在与其它分子发生两次碰撞之间约飞行66.5cm。碰撞图2是蒸发粒子在飞向基片途中发生碰撞的比例与气体分子的实际路程对平均自由程之比值的曲线。从图中可以看出，当λ=L时，有63%的蒸发分子会发生碰撞。如果平均自由程增加10倍，则散射的粒子数减少到9%，因此，蒸发粒子的平均自由程必须远远大于蒸距才能避免蒸发粒子在向基片迁移过程中与残余气体分子发生碰撞，从而有效地减少蒸发粒子的散射现象。目前常用的蒸发镀膜机的蒸距均不大于50cm。 次数用完API KEY 超过次数限制
残余气体分子撞击着真空室内的所有表面，包括正在生长着的膜层表面。在室温和10-4Pa压力下的空气环境中，形成单一分子层吸附所需的时间只有2.2s。可见，在蒸发镀膜过程中，如果要获得高纯度的膜层，必须使膜材原子或分子到达基片上的速率大于残余气体到达基片上的速率，只有这样才能制备出纯度好的膜层。这一点对于活性金属材料基片更为重要，因为这些金属材料的清洁表面的粘着系数均接近于1。在10-2Pa～10-4Pa压力下蒸发时，膜材蒸汽分子与残余气体分子到达基片上的数量大致相等，这必将影响制备的膜层质量。 次数用完API KEY 超过次数限制