






UV喷油上光工艺常见11个问题及解决
1."麻点"现象
原因:油墨发生了晶化现象 ;表面张力值大,对墨层润湿作用不好
解决:在UV油中加入5%的乳酸,***晶化膜或除去油质或打毛处理;降低表面张力值,加入表面活性剂或表面张力值较低的溶剂
2.条痕和起皱现象
原因:UV油太稠,涂布量过大,主要出现在辊涂中
解决:降低UV油的黏度值,加入适量的酒精溶剂稀释
3.气泡现象
原因:所用UV油质量不高,UV油本身含有气泡,多发生在用丝网上光中
解决:换用质量高的UV油或将其静置一段时间再用
4.桔皮现象
原因:UV油粘度高,沙田真空镀膜工艺,流平性差 ;涂布辊太粗不光滑且涂布量过大 ;压力大小不均匀
解决:降低粘度,加入流平剂及适当的溶剂 ;选用细的涂布辊和减少涂布量 ;调整压力
5.发粘现象 原因:紫外光强度不足或机速过快 ;UV光油存贮时间过长 ;不参与反应的稀释剂加入过多
解决:固化速度小于0.5秒机速时,紫外光功率应不小于120w/cm ;加入一定量的UV光油固化促进剂或更换光油 ;注意合理使用稀释剂
6.附着力差,涂不上或发花现象
原因:印刷品油墨表面产生晶化油、喷粉等,水墨中合调墨油及燥油过多 ;UV光油粘度太小或涂层太薄 ;涂胶网纹辊太细 ;光固化条件不合适;UV光油本身附着力差及印刷品材料的附着性差.
解决:消除晶化层,打毛处理或油脂或加入5%的乳酸;选择与UV油工艺参数相匹的油墨辅材、或用布擦拭 ;使用粘度高的UV光油,加大涂布量;换用与该UV光油相匹配的网纹辊 ;检查是否紫外光gong灯管老化,或机速不符,沙田真空镀膜厂,选择合适的干燥条件;上底胶或更换特殊的UV光油或选择表面性能好的材料
7.光泽不好亮度不够
原因:UV光油粘度太小,涂层太薄,涂布不均 ;印刷材料粗糙,吸收性太强;网纹辊过细,供油量太小 ;非参加干燥反应溶剂稀释过度。
解决:适当提高UV光油粘度及涂布量,调整涂布机构使涂布均匀;选择吸收性弱的材料,或先涂布一层底胶 ;加大网纹辊,提高供油量;减少乙醇等非反应稀释剂的加入。
8.白点与***现象
原因:涂布太薄或网纹辊过细 ;稀释剂选用不当 ;表面粉尘较多或喷粉的颗粒太粗
解决:选用合适网纹辊,增加涂层厚度 ;加入少量平滑助剂,采用参与反应的活性稀释剂;保持表面清洁与环境清洁,不喷粉或少喷粉或选择质量好的喷粉。
9.残留气味大
原因:干燥不彻底,如光强度不足或非反应型稀释剂过多 ;抗yang干扰能力差
解决:固化干燥要彻底,选择合适的光源功率与机速,减少使用非反应型 稀释剂或不用它;加强通气排气系统。
10.UV光油变稠或有凝胶现象
原因:贮存时间过长 ;未能完全避光贮存 ;贮存温度偏高
解决:按规定时间使用,一般为6个月 ;严格避光贮存 ;贮存温度必须控制在5℃~25℃左右
11.UV固化后自动爆裂
原因:被照表面温度过高后,聚合反应继续
解决:被照表面温度过高,增大灯管与被照物表面距离,冷风或冷辊压。
真空镀膜
所谓真空镀膜就是置待镀材料和被镀基板于真空室内,采用一定方法加热待镀材料,沙田真空镀膜工厂,使之蒸发或升华,并飞行溅射到被镀基板表面凝聚成膜的工艺。
镀膜的方法
在真空条件下成膜有很多优点:可减少蒸发材料的原子、分子在飞向基板过程中于分子的碰撞,减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应(如氧化等),以及减少成膜过程中气体分子进入薄膜中成为杂质的量,从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与基板的附着力。通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或低于10-2Pa,对于蒸发源与基板距离较远和薄膜质量要求很高的场合,则要求压力更低。
主要分为一下几类:
蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。
蒸发镀膜:通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面,称为蒸发镀膜。这种方法***早由M.法拉第于1857年提出,现代已成为常用镀膜技术之一。
蒸发物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源,待镀工件,如金属、陶瓷、塑料等基片置于坩埚前方。待系统抽至高真空后,加热坩埚使其中的物质蒸发。蒸发物质的原子或分子以冷凝方式沉积在基片表面。薄膜厚度可由数百埃至数微米。膜厚决定于蒸发源的蒸发速率和时间(或决定于装料量),并与源和基片的距离有关。对于大面积镀膜,常采用旋转基片或多蒸发源的方式以保证膜层厚度的均匀性。从蒸发源到基片的距离应小于蒸气分子在残余气体中的平均自由程,以免蒸气分子与残气分子碰撞引起化学作用。蒸气分子平均动能约为0.1~0.2电子伏。
蒸发源有三种类型。①电阻加热源:用难熔金属如钨、钽制成舟箔或丝状,真空镀膜,通以电流,加热在它上方的或置于坩埚中的蒸发物质(图1[蒸发镀膜设备示意图])电阻加热源主要用于蒸发Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。②高频感应加热源:用高频感应电流加热坩埚和蒸发物质。③电子束加热源:适用于蒸发温度较高(不低于2000[618-1])的材料,即用电子束轰击材料使其蒸发。
真空电镀的特点
1、真空镀膜所获得的金属膜层很薄(一般为0.01~0.1um),能够严格复zhi出啤件表面的形。
2、工作电压不是很高(200V),操作方便,但设备较昂贵。
3、蒸镀锅瓶容积小,电镀件出数少,生产效率较低。
4、只限于比钨丝熔点低的金属(如铝、银、铜、金等)镀饰。
5、对镀件表面质量要求较高﹐通常电镀前需打底油来弥补工件表面缺陷。
6、真空镀膜可以镀多种塑料如﹕ABS、PE、PP、PVC、PA、PMMA等

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