快速退火炉

2英寸实验室用RTP快速热处理系统

应用： 快速热退火 注入退火 化合物半导体退火 结晶化与致密化 等等…… 

特点：
3英寸快速热处理工艺设备，专为研发部门设计。

样本尺寸：
直径***大3英寸的数平方毫米范围 2英寸样本可选3英寸基座

工艺腔由拥有不锈钢法兰盘的石英管道组成 
管状红外卤素灯炉。 
极快的坡道速率 
带石英槽的水平移动门更利于晶圆的装载卸载和热电偶的安装。 
热电偶温度测量和快速数字PID温度控制器保障了可控温度范围内的高温和稳定。 
可选高温计控制。
本系统提供全电脑控制，应用控制软件兼容window系统。
应用特点：

温度范围：RT to 1200°C (&plu***n; 1°C) 
温升速率：***高250°C/s 
气体混合功能：使用质量流量控制器控制。 
真空范围：大气压～10-6 Torr