S***annah系列
原子层沉积设备
S***annahG2
S***annahG2
基本性能
ALD设备
可选腔室尺寸:100mm, 200mm 或 300mm
标准腔室温度:350℃
占地面积小
标配2个气源,可选配6个气源
性能可扩展,灵活性高
设备设计精简
设备内整合了蒸气阱
可选配多种性能
S***annah G2 ALD设备优势
快速ALD工艺处理 (2秒处理AL2O3)
增强版气源 & 气体传送
设备控制系统性能高
新型软件结构
在线椭圆测量
整合了在线石英晶体微量天秤
低压沉积性能高
批量处理不同气源
高温手套箱解决方案
粒子沉积系统
可选等离子增强ALD性能
ALD设备
可选腔室尺寸:100mm, 200mm 或 300mm
标准腔室温度:350℃
占地面积小
标配2个气源,可选配6个气源
性能可扩展,灵活性高
设备设计精简
设备内整合了蒸气阱
可选配多种性能
S***annah G2 ALD设备优势
快速ALD工艺处理 (2秒处理AL2O3)
增强版气源 & 气体传送
设备控制系统性能高
新型软件结构
在线椭圆测量
整合了在线石英晶体微量天秤
低压沉积性能高
批量处理不同气源
高温手套箱解决方案
粒子沉积系统
可选等离子增强ALD性能