进口原子层气相沉积设备
Ultratech/cambridge nanotech
Phoenix G2
总体描述
应用领域
提高硅片运行性能；
提高太阳能电池板效率；
改善***植入体的安全性。
特性
Simple and Easy to UseInterface操作者界面简单便捷
预置工艺菜单，用于多种膜层，包括纳米复合材料膜层；
工艺腔室大 （Gen2.5） ，可放置大型基片；
很多内置的安全性能。
可选项:
整合大容量臭氧发生器
低蒸气气源起泡器
整合手套箱
自动和半自动进样机
生产型ALD原子层沉积设备
Phoenix G2是稳定的生产型ALD设备。
设计灵活，方便使用；
用于多个操作界面；
已成为市场***的生产型ALD设备。
