法国Annealsys SprayCVD设备 型号050
用于新工艺研发的2 ″实验室CVD设备、采用相同反应器的喷雾CVD
应用：用于太阳能电池的氧化，镀制半导体，电光镀膜，绝缘层镀膜，超导体，固体氧化燃料电池膜层
主要特性
• Horizontal quartz tube with stainless steel flanges
•配有不锈钢法兰的水平石英管
• Lamp furnace for process up to 1200℃
•用于工艺的灯炉，***高至1200℃
• Thermocouple control with PID temperature controller
•热电偶控制PID温度控制器
• Kemstream Atokit for atomization of precursor
• Kemstream Atokit 用于源的雾化
• PC control with Ethernet communication
•配有以太网通讯的PC控制