法国Annealsys MOCVD设备 型号MC200
200mm MOCVD研发设备。
应用：在硅基片，玻璃，太阳能电池多晶硅，化合物半导体基片上长金属和合金，过渡金属元素氮化物，碳纳米管，纳米线等膜层
设备应用
用于镀制——
• Semiconductor: SiO2, HfO2, Ta2O5, Cu, TiN, TaN, …
•半导体: SiO2, HfO2, Ta2O5, Cu, TiN, TaN, …
• High k Dielectric: SrTiO3, BaTiO3, Ba(1-x)Sr
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地址：主营产品：annealsys RTP 快速退火炉,fhr 柔性镀膜设备...
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