法国Annealsys MC100 MOCVD设备,R&D应用4英寸MOCVD设备
应用:在硅基片,玻璃,太阳能电池多晶硅,化合物半导体基片上长金属和合金,过渡金属元素氮化物,碳纳米管,纳米线等膜层
应用
• Semiconductor: SiO2, HfO2, Ta2O5, Cu, TiN, TaN, …
•半导体: : SiO2, HfO2, Ta2O5, Cu, TiN, TaN, …
• High k Dielectric: SrTiO3, BaTiO3, Ba(1-x)SrxTiO3 (BST)
•高K绝缘体