法国Annealsys As-One快速热处理RTP系统

法国Annealsys As-One快速热处理RTP系统
冷腔室壁快速热处理炉
可处理4-inch(100 mm) 和 6-inch (150 mm) 版本
应用
   RTA (快速热退火)
   RTO (快速热氧化)
   扩散, 接触式退火
   化合物半导体退火
   氮化, 硅化, 硒化, 硫化
   结晶化及致密化
 
基本参数
    可处理4-inch 和 6-inch 硅片
    落地设计，占地面积小
    高可靠性，低拥有成本
    不锈钢冷腔室壁技术:
    高工艺复现性
    超洁净及无污染环境.
    高冷却速率，低记忆效应
    可提供高真空版本 (10-6 mbar)
    高温计和热电偶控制
    快速数字PID温度控制器
    边缘高温计视口，确保用于化合物半导体和小型样品
    基片托的温度控制.
性能 & 特点
温度范围: 室温 至 1500°C
    升温速率达 200°C/s
    特殊配置下冷却速率达 100°C/s
    带质量流量控制器的气体混合性能
    真空范围: 常压 至 10-6 Torr