FHR Micro200PVD
单腔单靶设计
实验室用磁控溅射设备
基片***大直径200mm
工艺
可选DC或RF版本
设备优点
占地面积小,设计精简
便于使用
内部研发的阴极结构,膜层厚度均匀性好
便于维护
使用研发和教学
低投入和操作成本
基本参数:
尺寸 750 mm x 600 mm x 1400 mm, 200 kg
工艺腔室数 1
基片尺寸 ***大30mm (使用定距环 > 30 mm)
均匀镀膜面积 直径150 mm
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